覆膜法培育櫻桃苗
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2019-12-11 13:20:46
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在培育櫻桃苗時應用到覆膜技術是結合了苗木的生長特性以及所需的生長要求，覆膜能夠提高地溫、保持土壤水分、抑制雜草生產上應根據不同的需要選用不同類型的地膜。無色透明地膜可有效提高地溫、減少水分蒸發，櫻桃苗定植后盡早覆膜，以提高土溫、保持土壤水分，對提高苗木成活率、縮短緩苗期和加速生長都有顯著作用；黑色地膜除草、保溫、保墑效果較好。
在櫻桃苗種植園區內進行地膜覆蓋時，要注意覆蓋帶不能過寬，一般幼樹僅覆蓋60~80厘米寬，大櫻桃樹苗覆蓋面積70010；澆水后不能立即覆膜，需待水滲下并中耕松土后方可覆膜，否則會因蓋膜后水分不易散失，土壤透氣性降低，而引起爛根。
時間也是覆膜法的一個關鍵要素，早期覆膜時間應在櫻桃完成自然休眠以后進行，大櫻桃在7.2℃以下，經過650~1440小時，自然休眠才能結束。一般適宜的覆膜時間大約在12月下旬與翌年的1月上中旬，在不具備管理技術和條件的情況下，切記不要盲目追早。覆膜過早，即使具備了生長發育條件，樹體也不能正常生長，反而花期溫度低，花期過長，開花不整齊，增加了技術難度和管理強度，整體效益不理想。
覆膜以后盡量不要急于升溫，前幾天可先遮陽蓄冷，白天蓋簾，晚間揭簾，繼續增加甜櫻桃對低溫的的需要，5~7天后再開始慢慢升溫。但升溫不宜過急，溫度不宜過高，否則容易出現先葉后花和雌蕊先出等生長倒序現象。有取暖設施的，也不要經常加溫，特別要注意夜間溫度不能過高。
小編：wxy
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